第195章 nm光刻胶出炉(2 / 2)

“太好了!”

周小树一阵激动,随后直接套上了无尘服,然后说道:“事不宜迟,咱们就尽快开始吧!”

王大海点点头也跟着从一旁拿出了无尘服,然后进入到了实验室内。

光刻胶的制作并不简单,尤其是高品质的光刻胶,更是决定了芯片的良品率以及性能。

品质越好的光刻胶,分辨率就越高,而这也直接决定了芯片的集成度。

除了分辨率以外,还有一个重要的指标就是敏感度。

这决定了曝光光源能量的影响效率,也决定了生产效率和成本。

目前龙国还在研制二代光刻机的光刻胶技术,而自己现在要生产的则是四代光刻机所用到的更高品质的光刻胶。

经过一番喷淋冲洗,去静电等环节之后,周小树穿着无尘服进入到了纯净车间。

前段时间一些前期的准备工作和各种反应的材料都已经做好了,

剩下的工作就是高速离心机所用到的分离提纯了。

他将所需要用到的材料送入高速离心机当中,然后按下了启动按钮。

随后实验室内传来了一阵轻微的嗡鸣声。

周小树每隔一段时间从里面取出来一些材料进行检测。

王大海站在一旁跟着仔细的学,拿着小本子像是小学生一样认真的记录着每一个步骤。

看着周小树打着哈欠,王大海连忙说道:“要不这个环节交给我吧。”

周小树点点头没有拒绝,然后又交代了一番之后这才离开实验室。

几天后。

实验室深处的暗红色防爆灯下,周小树小心翼翼地打开一个特制的、避光的棕色玻璃瓶。

瓶内,是一种呈现出均匀琥珀色、质地略显粘稠的液体。

看着瓶子里的这些液体,周小树的嘴角微微一扬。

“20nArF浸没式光刻胶样品,成了!”

听到这话,旁边的王大海激动的低声欢呼了一声。

“小树,太牛了,没想到你竟然做出来了,这就是你说的四代光刻机所需要用到的光刻胶吗?”

“没错,不过现在有个问题就是,没办法评估性能!”

虽然周小树明白,这一瓶光刻胶肯定是没问题的。

毕竟自己掌握的系统,按照其中的技术搞出来的东西是不会出现一点偏差的。

但是关键问题是拿不出来实验报告,那就没办法证明它的性能。

而光刻胶的性能测试绝非简单的观察和直觉判断,它需要一套极其复杂而且昂贵的专业设备。

首先是需要在步进式光刻机用于曝光测试,然后用扫描电子显微镜用于高精度测量曝光后图案的分辨率、线边缘粗糙度和侧壁形貌等性能。

这些设备,动辄数千万甚至上亿,而且大多被国外巨头垄断,对龙国严格禁运。

燕京半导体研究所内虽然也有一些设备,可那测试精度最高也就只有200纳米。

根本就测不出来这款光刻胶的极限性能。

周小树沉思了片刻。

很快,他眼中闪过一丝决断。

“如果我没记错的话,汉斯猫的希曼公司那边好像有相关设备,大海哥,你能不能帮我搞到他们那边的送检名单?”

对方一愣:“这……这种东西他们好像不会对外公布吧?”

周小树微微一笑:“我当然知道不会对外公布,所以……”

王大海瞪大眼睛,随后咬牙点点头:“好,我去弄!”